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半导体用臭氧水去除有机物质臭氧浓度需要达到多少

半导体用臭氧水去除有机物质臭氧浓度需要达到多少

使用臭氧水可去除的物质以及所需臭氧的浓度

利用臭氧的强氧化能力,可以实现分解并去除大量的杂质。

根据杂质的形状与数量的不同,所需浓度也将有所变化,请参考下图数据。

此外,如将稀氢氟酸与臭氧水同时使用,去除杂质的效果将倍增。


标签:半导体 臭氧水 有机物质 臭氧浓度


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